酸純化器
一、 產(chǎn)品簡介：
酸純化器：又稱酸純化系統(tǒng)，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結(jié)果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴，很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此，提純優(yōu)化酸的質(zhì)量，是經(jīng)濟可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
二、工作原理：
酸純化器是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā)，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑，廣泛應(yīng)用于樣品處理及分析實驗中。
三、 產(chǎn)品特點：
1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實驗室用超純酸，所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料，可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。
2、實驗證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后，金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高，可增加提純次數(shù)。
四、相關(guān)參數(shù)
五、使用注意事項：
1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質(zhì)。
2、加酸前必須做好個人防護如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。
【電子ji酸】：
適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量，劃分為4個類別：MOS，VLSI，ULSI，SLSI
MOS（EL）：控制十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右
VLSI：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb
ULSI：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下
SLSI：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下
所謂的電子ji酸，其實就是ppb或者ppt的高純酸。
實驗數(shù)據(jù)（僅供參考）：儀器：CH-I 酸純化器；試劑：優(yōu)ji純HF
蒸餾后，經(jīng)地質(zhì)大學(xué)重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質(zhì)的含量：
元素 | 測量濃度（ng/g=ppb） | 元素 | 測量濃度（ng/g=ppb） |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
